測定対象
- 医薬・医療
- バイオ・生化学
- 食品
- 化粧品・香料
- 表示デバイス
- 半導体分野
- 光源照明
- 光学材料
- フィルム
- 記録材料
- 化学工業材料
- 紙・パルプ・繊維
- 色材
- 自動車
- 建築
- 環境・エネルギー
製品一覧
ロードポート対応膜厚測定システムGS-300
特長
- Φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応
- ウェーハに埋め込んだ配線パターンのパターンアライメントを実現
- 半導体プロセスの高スループット要求に対応
- ノッチアライメント機能に対応
- 小フットプリント仕様
測定項目
- 厚さ測定
測定対象
- 半導体分野
- 光源照明
- 光学材料
- フィルム
- 記録材料
- 自動車
膜厚測定用途マルチチャンネル分光器MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
色測定用途マルチチャンネル分光器 MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
発光・蛍光測定用途マルチチャンネル分光器MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
反射率測定用途マルチチャンネル分光器 MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
透過率・吸光度測定用途マルチチャンネル分光器MCPD series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
カラーフィルタ分光特性測定装置LCF series
特長
- 透過スペクトル測定、色測定をはじめ、濃度測定、膜厚測定、反射スペクトル測定などにより、
カラーフィルタ製造工程中のあらゆる検査に対応可能な装置 - カラーフィルタの光学特性やガラス基板上膜の薄膜解析など、さまざまな評価に利用可能
- オートフォーカス機能や自動絵素位置合わせ機能により、高精度な測定が可能であり、レシピ登録による完全自動検査にも対応し可能
測定項目
- カラーフィルタ評価
- 膜厚評価
測定対象
- R
- G
- B
- ITO
- PI
- PR
- OC
- BM
マルチチャンネル分光器MCPD-9800/6800 series
特長
- 用途に応じた多彩な検出器をラインアップ
- 通信インターフェースはUSBとLANに対応可能
- 高速・高感度に光スペクトルを測定
- オプティカルファイバーによる自由な光学系
測定項目
- 顕微分光
- 光源発光
- 透過・反射測定
- 物体色評価
- 膜厚測定
組込み型膜厚モニター
特長
- 分光干渉法を用いた膜厚計
- 高精度FFT膜厚解析エンジンを搭載
(特許 第4834847号) - オプティカルファイバーにより
自由な測定系の構築が可能 - 各種製造装置への組み込みが可能
- リアルタイムでの膜厚測定が可能
- 遠隔操作、多点測定に対応
- 長寿命、高安定性の白色LED光源を採用
測定項目
- 膜厚
測定対象
- 光学フィルム
- FPD関連
スマート膜厚計SM-100 series
特長
- 「持ち運び可能なハンディタイプ」1.1 kgと軽く、持ち運びも簡単
- 「高精度測定&簡単測定」最薄0.1 μmまで検量線不要で測定可能
- 「多層膜も対応」3層までの多層膜を測定可能
- 「非破壊・非接触測定」サンプルを傷つけることもなく測定可能
- 「様々なサンプルを測定」基材(ガラス・プラスチック)を選ばず測定可能
測定対象例
- 光学フィルム
- 接着層
- 酸化膜
- レジスト膜
- ハードコート膜
- ポリイミド膜
測定膜厚範囲
- Pro(単層):0.1~100μm
- Pro(多層):1~100μm
- Standard(単層):1~50μm
分光エリプソメータFE-5000 series
特長
- 紫外可視(300~800nm)の波長領域でのエリプソパラメータ測定が可能
- ナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能
- 400ch以上のマルチチャンネル分光法によるエリプソスペクトルの迅速測定が可能
- 反射角度可変測定により、薄膜の詳細な解析に対応
- 光学定数のデータベース化およびレシピ登録機能の追加により操作性がアップ
測定項目
- エリプソパラメータ(tanψ、cosΔ)測定
- 光学定数(n:屈折率 , k:消衰係数)解析
- 膜厚解析
測定対象
- 半導体ウェーハ
- 化合物半導体
- FPD
- 各種新素材
- 光学薄膜
- リソグラフィー分野
分光干渉式ウェーハ厚み計SF-3
特長
- 光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能
- 高い測定再現性を実現
- 高速でリアルタイムに研磨モニタが可能
- 長いWD(ワークディスタンス)を実現し、
機器への組み込みが容易 - ホスト機器からLANを使用したTCP/IP通信で制御
- 多層厚み測定が可能
- テンポラリーウェーハ(仮貼り合わせウェーハ)の各層厚み測定が可能
測定項目
- 厚み測定(5層)
用途
- 各種ウェーハ(Silicon・その他化合物ウェーハ)厚み測定
- 各種 研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込み
- ウェーハ以外の厚膜部材厚み測定
膜厚モニターFE-300F
特長
- 小型・低価格・簡単操作で膜厚測定
- 分光器、光源の選択により測定膜厚範囲の選択可能
- 条件設定や測定操作が簡単。
どなたでも手軽に測定可能 - リアルタイムモニター機能や
シュミレーション機能などを搭載 - 測定スポット径φ1.2mmで、3nm~35μmの薄膜から厚膜まで幅広い測定に対応
測定項目
- 絶対反射率測定
- 膜厚解析(10層)
- 光学定数解析(n:屈折率、k:消衰計数)
測定対象
- 機能性フィルム、プラスチック
- 半導体
- 表面処理
- 光学材料
- FPD
- その他
MCPD series組込み型膜厚ヘッド
特長
- 膜厚測定範囲65nm~92μm(SiO2換算)
- 最短露光時間1ms~※
- フレキシブルファイバー光学系のため、
半導体プロセス装置に組込みが容易 - 上位からリモートコントロールが可能
- 研磨中の膜厚終点検出にも最適
【インラインタイプ】ラインスキャン膜厚計®
特長
- ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現
- 膜厚測定の専門メーカーだからできる充実サポート
- 高速・高精度に測定が可能
- バタつきに強い光学系を採用
- 幅広のサンプル(TD方向に最大10m測定可能)
- ハード・ソフト共にオリジナル設計
測定対象
- フィルム基材
- フィルム上各種薄膜(AR、ITO、HCなど)
- ガラス
- 機能性材料
- 医療用材料
測定項目
- 膜厚値(二次元マップ、MD・TDトレンド)
検出対象例
- MDスジ
- 横ダン
- 斜めムラ
- チャックムラ
- スポット欠陥
顕微分光膜厚計OPTM series
特長
- 膜厚測定に必要な機能をヘッド部に集約
- 顕微分光で高精度な絶対反射率測定(多層膜厚、光学定数)
- 1ポイント1秒以内の高速測定
- 顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系(紫外~近赤外)
- エリアセンサーによる安全機構
- 初めての方でも光学定数解析が可能な楽々解析ウイザード
- 測定シーケンスをカスタマイズ可能なマクロ機能搭載
- 複雑な光学定数も解析可能(複数点解析法)
- 300mmステージ対応可能
- 各種カスタマイズに対応
測定分野
- 半導体
- フィルム
- 太陽電池
- DLC
- FPD
- 光学部品
測定例
- 酸化膜
- 窒化膜
- レジスト膜
- ARコート膜
- ペロブスカイト膜
- 各種光学薄膜
測定項目
- 絶対反射率
- 膜厚解析
- 光学定数解析(n:屈折率、k:消衰係数)



